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美国SCS 旋转涂覆仪 G3系列:
SCS 公司的 G3 系列高精度旋转涂敷机是一款用于实验室、研发的桌面式仪器,应用于在平面基板上高精度的液体材料涂敷,象光刻胶、聚酰亚胺、金属有机化合物、搀杂剂、硅质薄膜等。G3 旋转涂敷机系统在操作精度和编程灵活性方面采用了新的标准,具有很高的旋转精度和重复精度, 拥有精度极高的加速/减速控制。
G3 系列共有 G3-8, G3P-8, G3P-12 和 G3P-15 四个型号。
G3-8: G3 系列不可编程旋转涂敷机,8"旋涂盘,单一涂敷程序。
G3P-8: G3 系列可编程旋转涂敷机,8"旋涂盘,可储存 30 个涂敷程序,每个程序可以有 20 步。G3P-12: G3 系列可编程旋转涂敷机,12"旋涂盘,可储存 30 个涂敷程序,每个程序可以有 20 步。G3P-15: G3 系列可编程旋转涂敷机,15"旋涂盘,可储存 30 个涂敷程序,每个程序可以有 20 步。
功能及技术规格:
。 基于微处理器控制,利用前面板 LCD 显示屏及键盘可快速,简单的编程。
。 闭环伺服电机控制提保证精确的速度调节。
。 使用可选的PC界面软件通过通讯端口实现外部控制,包括编程、曲线储存、PID、诊断、真空开/关、慢速中心定位及可编程初始位置。
。 可储存 30 个曲线,每个曲线可设定 20 步(如果使用外部计算机控制,则程序存储数量不限)。
。 程序可调整的旋转增量为 1.0 转/分,定时增量为 0.1 秒的,停留时间的增量为 1.0 秒,在每次循环中可以实现极高的重复精度。
。 对于可编程的机器,编码器允许真空吸盘(卡盘)停止在初始位置。
。 在可编程的机器系统中包括耐化学腐蚀的特氟纶涂层的底碗和完整的排泄系统。
。 客户评估的厚度均匀度范围在±3%内。
。 可编程的机器均标准配备联锁铰链盖子和安全玻璃观察窗。
。 紧凑的结构使其在生意通风橱时非常方便
。 吸盘(卡盘)旋转速度:0-9,999 转/分钟
。 加速度/减速度:0.1 – 25.5 秒,0.1 秒为增量
。驻留时间:0-999 秒,0.1 秒为增量
。 点胶时间:1-10 秒,0.1 秒为增量
。 系统尺寸:11.9” H x 12” W x 16.5” D(英寸)
。 系统电源:115/230 VAC, 50/60 Hz, 1?
真空卡盘:
SCS 涂敷系统的附件夹盘可以有多种材料供客户选择, 包括不锈钢(标准)、硬质阳极氧化铝、聚甲醛树酯和特氟纶。吸盘尺寸由客户制定以适应基片尺寸。吸盘的零配件按严格
公差制造,从而提供异常平整、刚性的平面。交叉涡道形吸盘可以使真空压分布在整个表面。SCS 推荐吸盘的直径比基片直径小 1/4 到 1 英寸。当使用脆性基片时,吸盘应支撑整个基片。
- 推荐产品
- 供应产品
- 产品分类
- 日本JEOL粉末装置TP-99010FDR
- PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
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- N-TEC全自动片机晶圆贴BW 243FA
- 德国Moeller光学动/静态接触角仪/界面测量仪SL150
- 德国Sentech集成多腔等离子刻蚀和沉积机
- N-TEC全自动真空压合机BW228-4FA
- 美国Nano-master原子层沉积机NLD-4000
- 德Iplas微波等离子化学气相沉积MPCVD
- P-1000 Pro ALD芬兰PICOSUN生产型原子层沉积机
- N-TEC全自动片机晶圆贴BW 243FA
- 日本JEOL场发射冷冻电子显微镜JEM-Z200FSC
- 日本JEOL离子切片仪EM-09100IS
- PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机
- N-TEC全自动晶圆贴片机BW 228-5FA