认证信息
高级会员 第 2 年
名 称：深圳市蓝星宇电子科技有限公司认 证：工商信息已核实
访问量：295358
手机网站
扫一扫，手机访问更轻松
产品分类
公司品牌
品牌传达企业理念
产品简介
产品详情
英国Oxford等离子去胶机(灰化)Plasma Stripper (Asher)
应用:从蚀刻晶圆片上移除光刻胶
流程配置: RIE/ICP
工作原理
。使用等离子体源，生成单原子反应种。
。氧是*常见的反应物质。反应性物质与光阻结合形成灰，
。用真空泵将其除去。
。ICP结构避免了高能离子轰击和电容耦合，
。提供低衬底损伤。
可用气体: O2， N2O
主要性能:
。开放式设计，可快速加载和卸载晶圆。
。基片放置在石英上，以避免溅射/再沉积电极材料
。通过顶部电极上的“莲蓬头”进气口将气体注入工艺室
。电感耦合等离子体(ICP)和电极的独立射频发生器提供对离子能量和离子密度的独立控制
。高电导泵浦端口提供高的气体吞吐量，以*快的腐蚀速率
。使用等离子体源，生成单原子反应种。氧是*常见的反应物质。
- 推荐产品
- 供应产品
- 产品分类
- 日本JEOL粉末装置TP-99010FDR
- PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- N-TEC全自动片机晶圆贴BW 243FA
- 德国Moeller光学动/静态接触角仪/界面测量仪SL150
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- 德国Sentech集成多腔等离子刻蚀和沉积机
- P-1000 Pro ALD芬兰PICOSUN生产型原子层沉积机
- N-TEC全自动真空压合机BW228-4FA
- 德Iplas微波等离子化学气相沉积MPCVD
- 美国Nano-master原子层沉积机NLD-4000
- 英国HHV真空镀膜系统Auto500 GB
- 英国HHV多功能镀膜机Auto306
- N-TEC全自动片机晶圆贴BW 243FA
- 美国D&S发射率测量仪AE1/RD1
- 瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机