台式精准气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL

台式精准气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL可用于二维材料以及衬底、样品在特定氛围中的高精度热处理，也可用于其他有高精度热处理要求的方向。Moorfield Nanotechnology将样品、衬底等材料的热处理上升到与纳米材料的制备同样的技术高度。通过精准的真空度与气氛控制以及高精度的温度控制使样品的热处理过程变得和样品的制备过程一样高度可控。西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室、曼彻斯特大学等用户对该设备的性能都给与了高度的评价。

ANNEAL有强大的真空、气氛控自动制系统，从高真空到各种气氛都可以高精度自动控制。ANNEAL可实现Ar， O₂， N₂，H₂等多种气体高精度的流量控制。ANNEAL有多种加热方案满足对不同温度的需求。完备的安全设计方案与独特的尾气稀释方案可以确保即使是在氢气气氛下退火也可以轻松掌控。系统配备的触屏式自动控制系统满足退火程序的设定与存储。

加热方式：

石英灯：温度**600℃，可兼容4英寸、6英寸样品台，可兼容多数气氛。

CCC碳化物：500℃以上需求的常选方案，温度可达1000℃，适用于非氧气环境。

SiC保护的碳材料：兼容氧气氛围与多数气体氛围的增强型加热材料。

主要特点：

◎ 高精度气氛自动控制

◎ 4英寸、6英寸样品台

◎ **1000℃的加热温度

◎ 本底真空<5×10^-7 mbar

◎ 简单快速取样

◎ 设定、保存多个热处理程序

◎ 完备的安全性设计

◎ 易于维护

◎ 兼容超净室

◎ 稳定的性能表现

系统选件：

◎ 4英寸、6英寸样品台

◎ 石英灯加热系统

◎ 电阻式加热系统

◎ 流量计精确控制

◎ 分子泵、机械泵真空系统

◎ 气压全自动控制系统