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小型台式无掩模光刻系统
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英国
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小型台式无掩模光刻系统

小型台式无掩模光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩模板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩模板的设计通常需要经常改变。无掩模光刻技术通过以软件设计电子掩模板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。

Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩模直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。

产品特点

Focus Lock自动对焦功能

Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。

光学轮廓仪

Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向**精度100 nm,方便快捷。

标记物自动识别

点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。

直写前预检查

软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。

简单的直写软件

MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。

Clewin 掩模图形设计软件

? 可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)

? 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式

? 书写范围只由基片尺寸决定

产品参数

Microwriter ML3

基本型

增强型

旗舰型

**样品尺寸

155×155×7mm

155×155×7mm

230×230×15mm

**直写面积

149mm x 149mm

149mm x 149mm

195mm x 195mm

曝光光源

405 nm LED 1.5W

405 nm LED 1.5W

385 nm LED 适用于SU-8

(365+405nm双光源可选)

直写分辨率

1μm

1μm and 5 μm

0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm

直写速度

20mm2/min @ 1μm

20mm2/min @ 1μm

120mm2/min @ 5μm

25mm2/min @ 0.6μm

50mm2/min @ 1μm

100mm2/min @ 2μm

180mm2/min @ 5μm

对准显微镜镜头

x10

x3 and x10 自动切换

x3, x5, x10, x20 自动切换

多层套刻精度

±1μm

±1μm

±0.5μm

*小栅格精度

200nm

200nm

100nm

样品台*小步长

100nm

100nm

50nm

光学轮廓Z分辨率

无(可升级)

300nm

100nm

样品表面自动对焦

灰度直写(255级)

自动晶片检查工具

无(可升级)

温控样品腔室

无(可升级)

无(可升级)

气动减震光学平台

无(可升级)

无(可升级)

应用案例

直写分辨率0.1μm

直写分辨率0.6μm

微电极制备

光刻胶上的图形

Au电极(SEM)

Au电极(SEM)

设计图

光刻胶上的图形

放大图的显微结构

微结构制备

微流通道制备

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