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美国Thermal Technology实验室真空高温炉
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美国
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产品简介

实验室真空高温炉

设备简介

美国Thermal Technology高温炉适用于各种实验室应用及小规模生产。操作简单,性能稳定。**可定制温度达3000℃。

设备特点

* 丰富加热原件可供选择

* **温度可达3000°C

* 可实现超高真空

* 可实现Ar/N2/O2/H2等多种气氛环境

应用领域

美国Thermal Technology高温炉可用于粉末冶金、金属化合物、陶瓷、半导体、物理、化学、材料、光学等诸多领域的样品合成及热处理工艺。

设备型号

石墨高温炉

Model 1000 石墨高温炉

**温度2900℃

顶部或底部进料

垂直或水平炉体

惰性气体

机械泵真空系统

Model HTG 石墨高温炉

**温度2500℃

底部进料

惰性气体

机械泵真空系统

高真空选件

Graphite Hot Zone

石墨高温炉 GRAPHITE HOT ZONE

型号

温度(°C)

炉膛尺寸(inch)

炉膛尺寸(mm)

1000-2560-FP20

2800

Ф 2 x 6

Ф 50 x 150

1000-3560-FP20

2650

Ф 3 x 6

Ф 75 x 150

1000-4560-FP30

2500

Ф 4 x 6

Ф 100 x 150

1000-45120-FP30

2000

Ф 4 x 12

Ф 100 x 300

1000-6580-FP40

2300

Ф 6 x 8

Ф 150 x 200

HTG-9020-FP23

2300

Ф 8 x 16

Ф 200 x 400

金属高温炉

Model 1100金属高温炉

**温度2900℃

顶部或底部进料

惰性气体

高真空选件

可燃气体选件

Model 1100金属高温炉

**温度2000℃

机械泵真空系统

高真空选件

可燃气体选件

Metal Hot Zone

金属高温炉 Metal HOT ZONE

型号

温度(°C)

炉膛尺寸(inch)

炉膛尺寸(mm)

1100-2560

2800

Ф 2 x 4

Ф 50 x 10

1100-3580

2700

Ф 3 x 6

Ф 75 x 150

1100-4080

2500

Ф 3.5 x 6

Ф 88 x 150

1100-40100

2200

Ф 3.5 x 8

Ф 88 x 200

1300-70160

2000

Ф 6 x 12

Ф 150 x 200

发表文章

1. Spectrum regulation of YAG:Ce transparent ceramics with Pr, Cr doping for white light emitting diodes application.Journal of the European Ceramic Society ,Volume 37, Issue 10, August 2017, Pages 3403-3409.

2. Thermal and structural stability of single- and multi-walled carbon nanotubes up to 1800 ℃ in Argon studied by Raman spectroscopy and transmission electron microscopy, Materials Research Bulletin 48 (2013) 41–47

用户单位

江苏师范大学

中科院硅酸盐研究所

北京交通大学

武汉大学

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