EZI UV Nanoimprint System PL600

EZI 紫外曝光纳米压印系统

EZ Imprinting推出了一款台式独立纳米压印系统：PL系列400/600.

EZImprinting是一种超高产率（> 99％）纳米压印光刻系统，带有低于10纳米的分辨率和一步自动释放功能。

特点：

? 全晶圆压印 - PL600适用于6英寸晶圆处理， PL400适用于4英寸晶圆处理

? 低于10纳米分辨率，产率高达99％

? 一步自动释放功能，可防止分离过程中模具/基材损坏，使压印产量**化

? 支持各种类型的硬模和软模

? 可变模具和基材尺寸，灵活方便

? 可编程PLC，通过自定义参数进行过程控制，带触摸屏用户界面

? 对准功能选项

? 多种工艺，适用于各种应用光学器件，显示器，数据存储，生物医学器件，半导体IC，化学合成和先进材料等

? 专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容

PL600

基材尺寸，6“标准（尺寸较小，形状不规则）

印记区：与晶圆尺寸相同。

模板尺寸 6”，4” ，2” and 1”

压印压力: 1 psi标准

模具/基材自动释放: 包括 - 不需要特殊工具

紫外线曝光时间:在95％强度水平下2-3分钟

对准功能: x，y，z和theta（精度2um）