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紫外高分辨率膜厚仪
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产品简介

FR-Basic VIS/NIR基础型膜厚仪(紫外/近红外-高分辨率)光谱范围:350-1000nm

Α)卤钨光源系统Tungsten Halogen light source 全软件控制的光谱范围和辐照强度。

小型光谱仪光谱范围(350nm-1000nm),分辨精度可达3648像素, 16位级 A/D 分辨精度;配有USB通讯接口;

光学连接器SMA 905, 光谱仪功率:110VAC/230VAC – 60Hz/50Hz.

10mm厚度的氧化铝面板,每英寸(25mm)间距,配有M6 (or ?”) 口径钻孔,用以安装光学部件。

样品放置台,配有多点Z轴聚焦和X-Y轴移动调节。反射探针夹具调节范围 (200mm – 200mm – 60mm),可在测试区域内精调节。

Β) FR-Monitor膜厚测试软件系统,

可精确计算如下参数:

1)单一或堆积膜层的厚度;

2)静态或动态模式下,单一膜层的折射率;本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库,可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率,透射率和反射率的测量,还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱,一次使用授权,即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。

C) 参考样片:

a) 经校准过的反射标准硅片;

b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片;

c) 经校准过的带有Si3N4/SiO2/Si特征区域的样片;

D) 反射光学探针

系统内嵌6组透射光探针200μm, 1组反射光探针200μm

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